精密光學平臺的應用選擇和要求
精密光學平臺分為兩大類:氣蘘減振及機械阻尼減振,氣蘘減振可獲得較低的頻率（0.7-3）Hz,機械阻尼減振效果稍遜(3-6)Hz所采用不同的方法減振效果也不同,在選擇光學平臺的時候要考慮所要求的光學平臺其減振性能與實驗采集數(shù)據(jù)的精密性相適應,儀器器件調(diào)試精密度與穩(wěn)定性能也直接影響數(shù)據(jù)的正常采集.光學平臺在整個實驗儀器器件中承擔的角色是承載、固定、排除減弱外界振源對儀器器件干擾，光學平臺的用途廣泛:以作為在光全息技術,光譜實驗技術,激光聚變技術,現(xiàn)代光學技術,精密檢測技術,集成電子技術,光纖通訊及醫(yī)療生物等現(xiàn)代科學研究工程中的基礎設備.鑒于光學平臺在實驗中的作用,因此要求制造的光學平臺具有剛度強、形變量小、承載能力大、減振效果好、對儀器器件的固定和保護還要求光學平臺的表面具有光潔、防腐、防銹、平整、方便固定器件.在材料選擇上采用強度較高的中碳鋼,平臺的表面則選用防腐、防銹的導磁不銹鋼.但在要求防電磁場干擾的情況下也全部采用不導磁不銹鋼。當光學平臺作為科學研究的基礎設備時需要相對長的時間穩(wěn)定和瞬時快速采集數(shù)據(jù)所要求振動振幅,頻率(Hz).提高光學平臺所有技術指標并不是唯一的選擇.外部壞境對光學平臺影響也是不可忽視的因素.

光學平臺種類
光學平臺的部件由主要兩部分組成:上部分光學平臺箱體、下部分連接光學平臺箱體的起調(diào)節(jié)、支撐和穩(wěn)定作用的腳.
從隔振方法上分

1. 氣蘘隔振:有內(nèi)置式與外露式;

內(nèi)置式是將氣蘘裝置在支撐腳內(nèi),外置式是氣蘘裸露在外.

1. 機械隔振:有機械彈簧隔振,氣動彈簧隔振;
2. 阻尼隔振:利用不同阻尼材料隔振;

從性能效果形式上分

1. 簡易型（又稱普通型）
2. 精密隔振型
3. 自動充氣型（又稱自動平衡）
4. 電動平移臺

光學平臺箱體
光學平臺的箱體要求制造精密、并要消除內(nèi)應力已防止因應力而產(chǎn)生形變,面板用高導磁不銹鋼材料，臺板精密制作，平面粗糙度0.4-0﹒8um并且光澤柔和。平面度＜0.05mm／㎡。面板的厚度6mm-12mm。M6.螺孔25×25等距制孔。箱體具有足夠的剛度。
支撐腳
支撐腳外形有方形和圓形，功能沒有區(qū)別，支撐腳內(nèi)置氣蘘。氣蘘與氣室之間有一小孔起阻尼作用，當振源干擾平臺時氣蘘發(fā)生變形氣體通過小孔進入氣室。使振動頻率降低。氣蘘內(nèi)壓大與小可影響振動頻率單位大小。支撐腳還承擔承載箱體儀器器件的重量并調(diào)節(jié)平臺的水平度。
特殊形狀的光學平臺
1．T字型
2．L字型
3．工字型
4．升降式型
5．雙層移動型
6.拼接型
普通光學平臺的技術指標
1、平面度：0.02mm／㎡-0.05mm／㎡
2、粗糙度：0.4-0.8um
3、固有頻率：4Hz-6Hz
4、振幅：0.1um-0.5um
5、螺孔: M6
6、螺孔矩陣：25×25 50×50
7、高度：800mm
8、規(guī)格：（見例表）

氣墊隔振光學平臺技術指標
1、平面度：0.02mm／㎡-0.05mm／㎡
2、粗糙度：0.4-0.8um
3、固有頻率：1.1Hz-2.8Hz
4、振幅：0.01um-0.1um
5、螺孔: M6
6、螺孔矩陣：25×25 50×50
7、高度：800mm
8、規(guī)格：（見例表）

自動平衡光學平臺技術指標
1、平面度：0.02mm／㎡-0.05mm／㎡
2、粗糙度：0.4-0.8um
3、固有頻率：1.1Hz-2.8Hz
4、振幅：0.01um-0.1um
5、螺孔: M6
6、螺孔矩陣：25×25 50×50
7、高度：800mm
8、規(guī)格：（見例表）